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日立开发出世界上最高速的晶体管

2002/6/12    来源:日经BP社    分享
  日立制作所日前成功开发出了“世界最高速度”(该公司)的晶体管。详细情况将在6月11起于美国檀香山召开的“2002 Symposium on VLSI Technology”上发表。

  此前的世界最高速度纪录为美国AMD公司开发的晶体管,该晶体管的栅极延迟时间只有0.29ps。此次,日立制作所通过缩小栅极长度和控制短通道效应,成功地将栅极延迟时间缩 小到了0.28ps。

  此次开发最重要的是导入了使用高介电率(high-k)材料的“偏移隔离层(Offset Spacer)”技术。另外,通过在栅极绝缘膜中采用基于自主开发的成膜法来控制Si底板与栅极绝缘膜界面的SiN膜,与原有产品相比,栅极漏电电流降低了1/10。

责任编辑:helen
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